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簡要描述：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術(shù)。
產(chǎn)品型號：M-150和P-150 廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2024-05-17訪 問 量：1945產(chǎn)品分類
詳細介紹
M-150
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術(shù)。M系列是用于光刻的掩模對準器。M-150專為6英寸晶圓設(shè)計，具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm ?？捎糜谏虡I(yè)半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。
技術(shù)參數(shù)
類型 | PLC手動控制系統(tǒng) | 波長 | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大7英寸 | 紫外光強度 | 15 ~ 25/ ? |
基片尺寸 | 6英寸 | 紫外線光束均勻度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟/接近 |
對準精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
紫外燈和電源 | 350W | 選配項 | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
P-150
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術(shù)。P-150專為6英寸晶圓設(shè)計，具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個350W的紫外線源。365nm處的光功率為25mW/cm 。可用于商業(yè)半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。
技術(shù)參數(shù)
類型 | 觸摸屏PC手動控制系統(tǒng) | 波長 | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大7x7英寸 | 紫外光強度 | 15 ~ 25/ ? |
基片尺寸 | 6英寸 | 紫外線光束均勻度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟/接近 |
對準精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
紫外燈和電源 | 350W | 選配項 | IR BSA, CCD BSA |
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